使用强磁透镜，这是在透射电镜中装上附加的扫描附件，场发射扫描电镜型号，使试样发出的二次电子在强磁场中被检测、收集成像，即利用透射电镜的扫描附件做出扫描电镜才能完成的二次电子像，而且这种二次电子像的分辨力往往优于同类电子枪的扫描电镜。
理想膜层的特点：
①良好的导热和导电性能。
②在3-4nm分辨率尺度内不显示其几何形貌特点，场发射扫描电镜多少钱一台，避免引入不必要的人为图像。
③不管样品的表面形貌如何，覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。
④膜层对样品明显的化学成分有干扰，也不显著的改变从样品中发射的X射线强度。
这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能，导电金属膜层的厚度普遍电位在1-10nm。
微区成分分析而言，分辨率指能分析的小区域
对微区成分分析而言，分辨率指能分析的小区域；对成像而言，北京场发射扫描电镜，它是指能分辨两点间的小距离。
SEM分辨率主要受三方面影响：入射电子束束斑直径、入射电子束在样品中的扩展效应、成像方式及所用的调制信号。
二次电子像的分辨率约为5-10nm，背散射电子像的分辨率约为50-200nm。
一般来说SEM分辨率指的是二次电子像的分辨率。
放大倍数：M = L/I，其中L是显像管尺寸，场发射扫描电镜厂家，I是光栅扫描时相邻两点间距。
M通过调节扫描线圈电流进行，电流小则电子束偏转角度小，放大倍数增大。
放大倍率不是越大越好，要根据有效放大倍率和分析样品的需要进行选择，与分辨率保持一定关系。
场发射式电子的电子产生率与真空度有密切的关系，其使用寿命也随真空度变差而急剧缩短，因此在样品制备上必须非常注意水气，或固定用的碳胶或银胶是否烤干，以免在观察的过程中，真空陡然变差而影响灯丝寿命，甚至系统当机。
面像差为物镜中主要缺陷，不易校正，因偏离透镜光轴之电子束偏折较大，其成像点较沿轴电子束成像之高斯成像平面(Gauss image ne)距透镜为近。
散光像差由透镜磁场不对称而来，使电子束在二互相垂直平面之聚焦落在不同点上。
散光像差一般用散光像差补偿器(stigmator)产生与散光像差大小相同、方向相反的像差校正，目前电子显微镜其聚光镜及物镜各有一组散光像差补偿器。
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